化學(xué)拋光過(guò)程中電流影響因

在此電位范圍內(nèi)，金屬表面的凸出部位由于距離陰極較凹洼部位近，電力線集中，優(yōu)先開(kāi)始溶解。溶液中離子擴(kuò)散的速度大于金屬溶解速度，促進(jìn)了金屬的溶解，因此，電流快速上升。

位由V2升至V3時(shí)，電流密度開(kāi)始下降，說(shuō)明陽(yáng)極表面溶解速度減慢。這是由于金屬通過(guò)前期溶解而變成水化離子進(jìn)入溶后，逐漸沉積在陽(yáng)極表面附近，金屬水化離子濃度刁不斷提高。這些金屬離子向溶液深處擴(kuò)專散的速度比余金屬離子從晶晶格進(jìn)入陽(yáng)栘極表面附近溶液的速度慢，使陽(yáng)極表面附近的金雇屬離子濃度增加，形成陽(yáng)圾的濃差極化。隨之金屬的溶解速度麥慢，陽(yáng)極表面的電阻增大，電壓升高而電流密度減小。另外，陽(yáng)極表面開(kāi)始有氧化物生成，特別是有低價(jià)的過(guò)渡氧化物生成。

極電位由V3廠3升至V4，陽(yáng)極電流密度從理論上略有升高，但基本上處于平穩(wěn)，屬于電流穩(wěn)定區(qū)。在本區(qū)間內(nèi)，陽(yáng)極表面的氧化物已基本覆蓋陽(yáng)極的表面，但金屬的溶解仍然繼續(xù)，它的溶解基金屬溶解的同時(shí)也不斷有氧化物七F我和氧化物物的溶解，因此維持著電流密度的穩(wěn)。顯然，在這里金屬氧化物的解速度決定了金屬的溶解速，。在此區(qū)域內(nèi)金屬的不斷溶角解即是進(jìn)行著電化學(xué)拋光。由于前面已進(jìn)行了活性溶解，陽(yáng)極表面已變得較為平整，凹、凸部位的幾何尺寸相差已不大，所以拋光速度較慢，逐漸變得有光澤，屬于良好的拋光區(qū)。實(shí)踐中已證明在此區(qū)間內(nèi)，氧氣雖有少量生成，但由于逸出氣壓不夠，不能脫離電極表面，結(jié)果形成氣泡附著在金屬表面，并使陽(yáng)極表面絕緣，電流不能正常通過(guò)，金屬離子不能繼續(xù)溶解電化學(xué)拋光的正常進(jìn)行，且加工面上有氣泡存留時(shí)的斑點(diǎn)，表面粗糙度較差。

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